1.왜 CTP 생산 속도가 단순히 1시간당 1단으로 측정될 수 없는가?
CTP 시스템의 명목 속도는 일반적으로 판 크기, 이미지 해상도 및 운영 조건 등 특정 조건에 따라 계산됩니다. 따라서,기계가 시간당 생산할 수 있는 판의 수를 비교하는 것만으로도 실제 생산 능력을 완전히 반영하지는 않습니다..
예를 들어, 동일한 CTP 시스템은 다른 해상도에서 다른 스캔 시간을 요구할 수 있으며, 다른 판 크기도 판당 노출 시간에 영향을 줄 수 있습니다.실제 생산은 여러 단계로 이루어집니다., 판 로딩, 위치, 노출, 판 운송, 가공 및 배하.
CTP 영상 속도가 매우 높지만 판 프로세서가 처리 용량이 충분하지 않으면 전체 생산 라인이 여전히이 병목으로 제한됩니다. 따라서CTP 효율을 평가할 때, 전체 판제 작업 흐름의 실제 처리량과 안정적인 연속 생산 능력을 고려하는 것이 더 의미 있습니다.단순히 CTP 시스템에 광고되는 최대 영상 속도에만 집중하기 보다는.
2왜 노출 된 CTP 판이 너무 오래 처리되지 않아야 하는가?
노출 과정이 끝나면 반드시 판이 완전히 안정된 상태로 도달한다는 것을 의미하지는 않습니다. 화학 처리를 필요로하는 CTP 판의 경우노출과 발달 사이의 시간, 환경 온도 및 조명 조건은 최종 결과에 영향을 줄 수 있습니다. 일부 판 재료는 노출 후 광감각층에서 반응을 계속 할 수 있습니다.너무 오래 방치되거나 부적절한 빛에 노출되면, 그들의 발달 특성이 바뀔 수 있습니다.
특히 생산 현장에서는 먼지, 습기 및 기계적 마찰에 의해 오랫동안 쌓여있는 노출 된 판에도 영향을받을 수 있습니다. 따라서CTP 생산은 일반적으로 노출 사이의 일관성있는 작업 흐름을 요구합니다., 개발 및 후속 처리
중요한 것은 접시에 노출된 직후에 처리되어야 한다는 것이 아닙니다.하지만 처리시간과 환경 조건은 사용된 특정 판 재료의 요구 사항에 따라 일정하게 유지됩니다..
3. CTP 시스템 의 내부 는 왜 깨끗 하게 유지 해야 합니까? 먼지 가 정말 판 품질 에 영향을 줄 수 있습니까?
CTP 시스템은 정밀 광 기계 및 전자 장치이기 때문에 기계 안의 먼지는 단지 외관뿐만 아니라 이미지 품질에도 직접 영향을 줄 수 있습니다. 예를 들어,거울에 먼지가 쌓이면, 렌즈 또는 다른 광학적 구성 요소, 그것은 레이저 에너지 전송 및 중점화에 영향을 줄 수 있습니다. 판 운송 메커니즘의 먼지 또는 잔해 또한 판 평면성과 위치 정확성에 영향을 줄 수 있습니다.
또한, 판 표면의 먼지는 부분적으로 레이저 노출을 차단할 수 있으며, 잠재적으로 이미지 판에 작은 결함을 유발할 수 있습니다. 따라서,CTP 유지보수는 광 시스템의 청결성에 특히주의를 기울여야합니다., 판 운송 경로 및 내부 작업 영역.
그러나, 정밀 광학 부품은 적절한 허가 없이 운영자들에 의해 청소되거나 지워서는 안 됩니다.장비 제조업체의 유지보수 절차에 따라 유지 유지해야합니다.그렇지 않으면 부적절한 청소는 광적 표면을 손상시키고 더 심각한 문제를 일으킬 수 있습니다.
4왜 CTP 판 품질의 안정성은 단일 판의 가장 높은 해상도보다 더 중요한가?
인쇄 생산 에서, 목표는 보통 한 장 만의 인쇄판 을 생산 하는 것 이 아니라, 수십 개, 수백 개, 심지어 더 많은 판 을 연속적으로 생산 하는 것 이다.CTP 시스템의 가장 중요한 성능 지표 중 하나는 장기적인 결과의 일관성입니다..
예를 들어, 첫 번째 판과 백 번째 판은 반조각 점 복제, 차원 정확성, 등록 위치,그리고 노출 성능CTP 시스템은 때때로 매우 얇은 판을 생산할 수 있지만 지속적인 생산 중에 반조각 점들이 지속적으로 변동하면 실제 인쇄에 대한 실용적 가치가 제한됩니다.
안정적인 출력을 달성하려면 CTP 레이저 시스템, 기계적 움직임, 판 처리, 온도 및 습도 조건 및 RIP 출력 매개 변수가 비교적 일관성을 유지해야합니다.,전문 CTP 생산 관리는 반복성, 선형화 및 장기 안정성에 더 많은 중점을 둡니다.단순히 장비에 광고되는 최대 해상도에 초점을 맞추기 보다는.
1.왜 CTP 생산 속도가 단순히 1시간당 1단으로 측정될 수 없는가?
CTP 시스템의 명목 속도는 일반적으로 판 크기, 이미지 해상도 및 운영 조건 등 특정 조건에 따라 계산됩니다. 따라서,기계가 시간당 생산할 수 있는 판의 수를 비교하는 것만으로도 실제 생산 능력을 완전히 반영하지는 않습니다..
예를 들어, 동일한 CTP 시스템은 다른 해상도에서 다른 스캔 시간을 요구할 수 있으며, 다른 판 크기도 판당 노출 시간에 영향을 줄 수 있습니다.실제 생산은 여러 단계로 이루어집니다., 판 로딩, 위치, 노출, 판 운송, 가공 및 배하.
CTP 영상 속도가 매우 높지만 판 프로세서가 처리 용량이 충분하지 않으면 전체 생산 라인이 여전히이 병목으로 제한됩니다. 따라서CTP 효율을 평가할 때, 전체 판제 작업 흐름의 실제 처리량과 안정적인 연속 생산 능력을 고려하는 것이 더 의미 있습니다.단순히 CTP 시스템에 광고되는 최대 영상 속도에만 집중하기 보다는.
2왜 노출 된 CTP 판이 너무 오래 처리되지 않아야 하는가?
노출 과정이 끝나면 반드시 판이 완전히 안정된 상태로 도달한다는 것을 의미하지는 않습니다. 화학 처리를 필요로하는 CTP 판의 경우노출과 발달 사이의 시간, 환경 온도 및 조명 조건은 최종 결과에 영향을 줄 수 있습니다. 일부 판 재료는 노출 후 광감각층에서 반응을 계속 할 수 있습니다.너무 오래 방치되거나 부적절한 빛에 노출되면, 그들의 발달 특성이 바뀔 수 있습니다.
특히 생산 현장에서는 먼지, 습기 및 기계적 마찰에 의해 오랫동안 쌓여있는 노출 된 판에도 영향을받을 수 있습니다. 따라서CTP 생산은 일반적으로 노출 사이의 일관성있는 작업 흐름을 요구합니다., 개발 및 후속 처리
중요한 것은 접시에 노출된 직후에 처리되어야 한다는 것이 아닙니다.하지만 처리시간과 환경 조건은 사용된 특정 판 재료의 요구 사항에 따라 일정하게 유지됩니다..
3. CTP 시스템 의 내부 는 왜 깨끗 하게 유지 해야 합니까? 먼지 가 정말 판 품질 에 영향을 줄 수 있습니까?
CTP 시스템은 정밀 광 기계 및 전자 장치이기 때문에 기계 안의 먼지는 단지 외관뿐만 아니라 이미지 품질에도 직접 영향을 줄 수 있습니다. 예를 들어,거울에 먼지가 쌓이면, 렌즈 또는 다른 광학적 구성 요소, 그것은 레이저 에너지 전송 및 중점화에 영향을 줄 수 있습니다. 판 운송 메커니즘의 먼지 또는 잔해 또한 판 평면성과 위치 정확성에 영향을 줄 수 있습니다.
또한, 판 표면의 먼지는 부분적으로 레이저 노출을 차단할 수 있으며, 잠재적으로 이미지 판에 작은 결함을 유발할 수 있습니다. 따라서,CTP 유지보수는 광 시스템의 청결성에 특히주의를 기울여야합니다., 판 운송 경로 및 내부 작업 영역.
그러나, 정밀 광학 부품은 적절한 허가 없이 운영자들에 의해 청소되거나 지워서는 안 됩니다.장비 제조업체의 유지보수 절차에 따라 유지 유지해야합니다.그렇지 않으면 부적절한 청소는 광적 표면을 손상시키고 더 심각한 문제를 일으킬 수 있습니다.
4왜 CTP 판 품질의 안정성은 단일 판의 가장 높은 해상도보다 더 중요한가?
인쇄 생산 에서, 목표는 보통 한 장 만의 인쇄판 을 생산 하는 것 이 아니라, 수십 개, 수백 개, 심지어 더 많은 판 을 연속적으로 생산 하는 것 이다.CTP 시스템의 가장 중요한 성능 지표 중 하나는 장기적인 결과의 일관성입니다..
예를 들어, 첫 번째 판과 백 번째 판은 반조각 점 복제, 차원 정확성, 등록 위치,그리고 노출 성능CTP 시스템은 때때로 매우 얇은 판을 생산할 수 있지만 지속적인 생산 중에 반조각 점들이 지속적으로 변동하면 실제 인쇄에 대한 실용적 가치가 제한됩니다.
안정적인 출력을 달성하려면 CTP 레이저 시스템, 기계적 움직임, 판 처리, 온도 및 습도 조건 및 RIP 출력 매개 변수가 비교적 일관성을 유지해야합니다.,전문 CTP 생산 관리는 반복성, 선형화 및 장기 안정성에 더 많은 중점을 둡니다.단순히 장비에 광고되는 최대 해상도에 초점을 맞추기 보다는.
